わが国の公設試(各都道府県に設置されている工業技術センターなどの公的試験研究機関)は、各地の中堅・中小企業の「技術助っ人」として種々の試験研究や技術相談等の活動を行っており、地域産業発展に重要な役割を果たしています。
 
 以下に、地域の中でMEMSファンドリー事業を行っている各地の「公設試ファンドリー」を紹介します。民間企業を中心とするMEMS協議会@MMCのMEMSファンドリーネットワーク事業との連携により、MEMS産業の育成・活性化を目指します。

宮城県産業技術総合センター 山形県工業技術センター   
東京都立産業技術研究センタ 神奈川県産業技術センター  
大阪府立産業技術総合研究所

                    
 宮城県産業技術総合センター

 当センターではファンドリーに関する業務は行っておりませんが、県内外の企業に対して,MEMSデバイスに関する技術相談・機器開放などの技術支援,および共同研究を行っております。プロセス設備に関しては,4インチウエハを基本としております。

〈主要技術・設備〉
・クリーンルーム クラス1000及び10(イエロールーム),超純水製造装置
・エッチング ウエットエッチング(シリコン,シリコン酸化膜,Au,Cr,Al等金属)
・成   膜  スパッタ装置(各種金属,SiO2),酸化炉
・そ の 他 ダイシング装置
・評   価 透明薄膜の光学式膜厚測定
薄膜の触針式段差測定
MEMSデバイスの変位・微小容量測定等
〈連絡先〉
・担当部署 宮城県産業技術総合センター 機械電子情報技術部
・担 当 者 宮城県産業技術総合センター 技術相談窓口
・電   話 022-377-8700
・F A X 022-377-8712
・E-mail soudan-itim@pref.miyagi.jp
〈URL〉   http://www.mit.pref.miyagi.jp/



 山形県工業技術センター

 当センターでは、1991年からMEMS関連の研究をスタートし、加速度センサや赤外線センサ等の物理量センサをはじめ、マイクロアクチュエータ、2軸光スキャナ、μTAS用分析チップなど多岐にわたるテーマに取り組んで参りました。
 当センターは県立の試験研究機関であり、県内企業に対するMEMS技術の支援を第一義としております。したがって、ファンドリーに関する業務は行っておりませんが、県外企業に対しては技術相談などの対応を行っております。

〈主要技術・設備〉
  当センターでは、マスク作製から、フォトリソ工程、成膜、エッチングなど一連のMEMS工程を備えております
・マスク作製 縮小カメラを用いたエマルジョンマスク、電子線露光装置を用いたクロムマスク(パタン精度により作製法を決定)
・エッチング シリコンエッチング:アルカリ水溶液を用いた結晶異方性エッチング、等方性プラズマエッチング、シリコン酸化膜やAu、Cr等金属のウエットエッチング
・成   膜  各種金属の真空蒸着やスパッタ、シリコン熱酸化等
・そ の 他 陽極接合装置、ダイシング装置、ワイヤボンダ等
・評   価 エリプソメーターによる透明薄膜の屈折率や膜厚測定、精密測定器を用いた薄膜の触針式段差測定、MEMSデバイスの変位測定等
〈連絡先〉
・担当部署 山形県工業技術センター 電子情報技術部
・担 当 者 小林誠也、渡部善幸、岩松新之輔、阿部泰
・電   話 023-644-3222
・F A X 023-644-3228
・E-mail watanabeyoshiy@pref.yamagata.jp(渡部善幸)
〈URL〉   http://www.yrit.pref.yamagata.jp/



 (独)東京都立産業技術研究センター

 東京都は(独)東京都立産業技術研究センタ-のエレクトロニクスグループと城南地域中小企業振興センター内に平成17年2月に開設した東京都ナノテクノロジーセンターにおいて、都内中小企業のナノテク分野での事業化を支援するため、産学公連携による共同研究、機器の開放、技術相談等を実施しています。
 
〈両所の主要技術・設備〉
  リソグラフィー技術、UV-LIGA,シリコンエッチング、マイクロ電鋳、マイクロモールディングなど
<(独)東京都立産業技術研究センター>
〈主要技術・設備〉
・クリーンルーム
・リソグラフィー

ECRイオンシャワー、紫外線露光装置
・成   膜  大気圧プラズマ照射装置、ECR成膜装置
・接合・実装 ダイシングソー、レーザー型彫り装置
〈連絡先〉
・担当部署 (独)東京都立産業技術研究センターエレクトロニクスグループ
・担 当 者 楊  振、石束 真典
・電   話 03-3909-2151
・F A X 03-3909-2590 
・E-mail sodan@iri-tokyo.jp
〈URL〉   http://www.iri-tokyo.jp
 
<東京都ナノテクノロジーセンター>
〈主要技術・設備〉
・クリーンルーム
・リソグラフィー

ECRイオンシャワー、電子線描画装置、紫外線露光装置
・エッチング ICPドライエッチング装置
・成   膜  FIB(収束イオンビーム)加工装置
〈連絡先〉
・担当部署 東京都ナノテクノロジーセンター
・担 当 者 加沢 エリト、植松 卓彦
・電   話 03-3735-3510
・F A X 03-3735-3522
・E-mail nanotec@iri-tokyo.jp
〈URL〉   http://www.iri-tokyo.jp



 神奈川県産業技術センター

 当センターでは依頼試験・加工、機器利用、受託研究の方法により、センサやマイクロマシン研究開発に関するフォトマスク作製やリソグラフィー、薄膜作製や半導体IC工程、接合や実装、ナノインプリント、そしてこれらに関わる評価・解析などを個別プロセスでも一連のプロセスでも技術支援しています。 これまでに光通信用オプティカルベンチ、マイクロ風速計、磁気センサ、光センサ、バイオセンサなどの技術開発支援や研究を行ってきました。
  
〈主要技術・設備〉  機器の詳細な仕様は下記URLのホームページをご覧ください。
・クリーンルーム クラス1000及び10000
・リソグラフィー レジスト塗布・現像装置、両面マスクアライナー、電子線描画装置等
・成   膜  スパッタ装置、イオンプレーティング装置、CVD装置、イオン注入装置、酸化拡散炉等
・接合・実装 陽極接合装置、ダイシング装置、ワイヤボンダ、フリップチップボンダ等
〈連絡先〉
・担当部署 神奈川県産業技術センター 電子技術部
・担 当 者 神奈川県産業技術センター 技術相談専用窓口
・電   話 046-236-1510
・F A X 046-236-1525
・E-mail https://www.kanagawa-iri.go.jp/soudan.html
 から入ってメール送信してください。
〈URL〉   http://www.kanagawa-iri.go.jp/



 大阪府立産業技術総合研究所

 大阪府立産業技術総合研究所内にマイクロデバイス開発支援センターを設置しており、MEMS技術や高機能薄膜作製技術を用いた高機能なセンサや集積化マイクロデバイスの研究・開発に関する技術支援を行っております。
 また、MEMS技術や信号処理技術などの普及を図るため、講習会やセミナーなどを企画・後援しています。 MEMS関連技術の研究・開発支援のために種々の微細加工用装置や計測装置をクリーンルーム内に有しており、設備を有料にて開放しています(一部装置を除く)。
 所有する微細加工用装置とノウハウを活かして、依頼加工や受託研究も行っています。詳細についてはお問い合わせ下さい。

〈主要技術・設備〉
  MEMS関連プロセス技術として、シリコンバルクマイクロマシニング、機能性薄膜形成技術、各種評価解析技術を所有。センサからの出力信号処理技術を所有。
・クリーンルーム クラス10,000、ドラフトチャンバー、超純水製造装置
・マスク作製 レーザー直接描画装置、パターンジェネレータ装置
・リソグラフィ 両面マスクアライナー、高精度マスクアライナー
・エッチング RIE装置、ICP-RIE装置
・成   膜  半導体熱処理炉、LPCVD炉(SiN, Poly-Si)、スパッタ装置
・接合・実装 ダイシング装置、金ワイヤーボンダー装置
〈連絡先〉
・担当部署 大阪府立産業技術総合研究所 情報電子部 電子・光材料系
・担 当 者 田中恒久、村上修一、宇野真由美
・電   話 0725-51-2534
・F A X 0725-51-2597
・E-mail tunetanaka@tri.pref.osaka.jp
〈URL〉   http://tri-osaka.jp/group/infoele/elephoto/




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