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 宮城県産業技術総合センター
| 当センターではファンドリーに関する業務は行っておりませんが、県内外の企業に対して，MEMSデバイスに関する技術相談・機器開放などの技術支援，および共同研究を行っております。プロセス設備に関しては，４インチウエハを基本としております。 |
| 〈主要技術・設備〉 |
| ・クリーンルーム |
クラス1000及び10(イエロールーム)，超純水製造装置 |
| ・エッチング |
ウエットエッチング(シリコン，シリコン酸化膜，Au，Cr，Al等金属)
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| ・成 膜 |
スパッタ装置(各種金属，SiO2)，酸化炉 |
| ・そ の 他 |
ダイシング装置 |
| ・評 価 |
透明薄膜の光学式膜厚測定
薄膜の触針式段差測定
ＭＥＭＳデバイスの変位・微小容量測定等
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| 〈連絡先〉 |
| ・担当部署 |
宮城県産業技術総合センター 機械電子情報技術部 |
| ・担 当 者 |
宮城県産業技術総合センター 技術相談窓口 |
| ・電 話 |
022-377-8700 |
| ・Ｆ Ａ Ｘ |
022-377-8712 |
| ・E-mail |
soudan-itim@pref.miyagi.jp |
| 〈ＵＲＬ〉 |
http://www.mit.pref.miyagi.jp/ |
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山形県工業技術センター
当センターでは、1991年からＭＥＭＳ関連の研究をスタートし、加速度センサや赤外線センサ等の物理量センサをはじめ、マイクロアクチュエータ、２軸光スキャナ、μＴAＳ用分析チップなど多岐にわたるテーマに取り組んで参りました。
当センターは県立の試験研究機関であり、県内企業に対するＭＥＭＳ技術の支援を第一義としております。したがって、ファンドリーに関する業務は行っておりませんが、県外企業に対しては技術相談などの対応を行っております。 |
| 〈主要技術・設備〉 |
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当センターでは、マスク作製から、フォトリソ工程、成膜、エッチングなど一連のＭＥＭＳ工程を備えております |
| ・マスク作製 |
縮小カメラを用いたエマルジョンマスク、電子線露光装置を用いたクロムマスク（パタン精度により作製法を決定） |
| ・エッチング |
シリコンエッチング：アルカリ水溶液を用いた結晶異方性エッチング、等方性プラズマエッチング、シリコン酸化膜やAu、Cr等金属のウエットエッチング
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| ・成 膜 |
各種金属の真空蒸着やスパッタ、シリコン熱酸化等 |
| ・そ の 他 |
陽極接合装置、ダイシング装置、ワイヤボンダ等 |
| ・評 価 |
エリプソメーターによる透明薄膜の屈折率や膜厚測定、精密測定器を用いた薄膜の触針式段差測定、ＭＥＭＳデバイスの変位測定等
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| 〈連絡先〉 |
| ・担当部署 |
山形県工業技術センター 電子情報システム部 MEMSグループ |
| ・担 当 者 |
小林誠也、渡部善幸、岩松新之輔、阿部泰 |
| ・電 話 |
023-644-3222 |
| ・Ｆ Ａ Ｘ |
023-644-3228 |
| ・E-mail |
watanabeyoshiy@pref.yamagata.jp（渡部善幸） |
| 〈ＵＲＬ〉 |
https://yrit.jp/ |
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（地独）東京都立産業技術研究センター
| 当センターでは機器利用、オーダーメード開発支援、受託研究、共同研究等の事業形態で技術支援を実施しております。また、下記の装置群を利用して、センサ・マイクロマシン・微細加工を基幹とする研究を行っております。 |
| 〈主要技術・設備〉 |
| ・クリーンルーム |
クラス1,000および10,000 |
| ・リソグラフィ |
両面マスクアライナー、マスクレス露光装置、電子線描画装置 |
| ・エッチング |
RIE装置、ICP-RIE装置、プラズマクリーニングシステム、大気圧プラズマ |
| ・成 膜 |
イオンビームスパッタ、マグネトロンスパッタ |
| ・接合・実装 |
ワイヤボンダ、ダイボンダ、フリップチップボンダ、ボンディングテスタ、ディスペンサ |
| ・その他 |
ナノインプリント装置、ダイシングソー、触針式段差計、ナノサーチ顕微鏡、測長顕微鏡 |
| 〈連絡先〉 |
| ・担当部署 |
（地独）東京都立産業技術研究センター 電気電子技術グループ |
| ・問い合わせ |
総合支援窓ロ（本部） |
| ・電 話 |
03-3909-2151 |
| ・Ｆ Ａ Ｘ |
03-3909-2590 |
| 〈ＵＲＬ〉 |
https://www.iri-tokyo.jp |
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（地独）神奈川県立産業技術総合研究所
| 当研究所では依頼試験、機器利用、受託研究の方法により、センサやマイクロマシン研究開発に関するリソグラフィー、薄膜作製、接合や実装などに関わる評価・解析などを個別プロセスでも一連のプロセスでも技術支援します。これまでに光通信用オプティカルベンチ、マイクロ風速計、磁気センサ、光センサ、バイオセンサなどの技術開発支援や研究を行ってきました。 |
| 〈主要技術・設備〉 機器の詳細な仕様は下記URLのホームページをご覧ください。 |
| ・クリーンルーム |
クラス1000及び10000 |
| ・リソグラフィー |
レジスト塗布・現像装置、両面マスクアライナー、電子線描画装置等 |
| ・成 膜 |
スパッタ装置、イオンプレーティング装置、真空蒸着装置、酸化拡散炉等 |
| ・エッチング |
ECRエッチャー、プラズマアッシャー、ウェットエッチング、シリコン異方性エッチング |
| ・接合・実装 |
陽極接合装置、ダイシング装置、ワイヤボンダ、フリップチップボンダ等 |
| ・その他 |
関連評価装置等（FE-SEM、X線回折装置、共焦点顕微鏡など） |
| 〈連絡先〉 |
| ・担当部署 |
（地独）神奈川県立産業技術総合研究所 電子技術部 |
| ・担 当 者 |
（地独）神奈川県立産業技術総合研究所 技術相談専用窓口 |
| ・電 話 |
直通：046-236-1510 |
| ・Ｆ Ａ Ｘ |
046-236-1527 |
| ・E-mail |
https://www.kistec-biz.jp/e_mail_consul/
から入ってメール送信してください。 |
| 〈ＵＲＬ〉 |
https://www.kistec.jp/ |
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（地独）大阪産業技術研究所
当研究所ではマイクロデバイス開発支援センターを設置しており、MEMS技術や高機能薄膜作製技術を用いた高機能なセンサや集積化マイクロデバイスの研究・開発に関する技術支援を行っております。
また、MEMS技術や信号処理技術などの普及を図るため、講習会やセミナーなどを企画・後援しています。 MEMS関連技術の研究・開発支援のために種々の微細加工用装置や計測装置をクリーンルーム内に有しており、設備を有料にて開放しています（一部装置を除く）。
所有する微細加工用装置とノウハウを活かして、依頼加工や受託研究も行っています。詳細についてはお問い合わせ下さい。 |
| 〈主要技術・設備〉 |
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ＭＥＭＳ関連プロセス技術として、シリコンバルクマイクロマシニング、機能性薄膜形成技術、各種評価解析技術を所有。センサからの出力信号処理技術を所有。 |
| ・クリーンルーム |
クラス10,000、ドラフトチャンバー、超純水製造装置 |
| ・マスク作製 |
レーザー直接描画装置、パターンジェネレータ装置 |
| ・リソグラフィ |
両面マスクアライナー、高精度マスクアライナー |
| ・エッチング |
ＲＩＥ装置、ＩＣＰ－ＲＩＥ装置、シリコン高速深掘り装置（ＤＲＩＥ） |
| ・成 膜 |
半導体熱処理炉、ＬＰＣＶＤ炉(SiN, Poly-Si)、スパッタ装置、プラズマＣＶＤ装置
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| ・接合・実装 |
ダイシング装置、金ワイヤーボンダー装置 |
| ・評 価 |
ホール効果測定装置、分光エリプソメータ、振動試料型磁力計、強誘電体評価装置、半導体パラメータアナライザ、インピーダンスアナライザなど
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| 〈連絡先〉 |
| ・担当部署 |
大阪産業技術研究所 電子・機械システム研究部 |
| ・担 当 者 |
本部・和泉センター（技術相談・総合受付） |
| ・電 話 |
0725-51-2525 |
| ・Ｆ Ａ Ｘ |
0725-51-2639 |
| ・E-mail |
http://tri-osaka.jp/tri24c.html
から入ってメール送信してください。 |
| 〈ＵＲＬ〉 |
https://orist.jp/kenkyu-bu/denshi-kikai/ |
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公益財団法人 にいがた産業創造機構 ナノテク研究センター
| ＭＥＭＳデバイスの開発促進や微細加工技術の普及のため、関連設備を有償にて開放しております。新潟県工業技術総合研究所の協力のもと、技術相談への対応や設備の操作講習を随時実施している他、当該研究所では新潟県内企業との共同研究も多数の実績を有しております。ご関心のある方はお問い合わせください。 |
| 〈主要技術・設備〉 |
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*新潟県工業技術総合研究所保有設備 |
| ・クリーンルーム |
クラス1000（設計）、イエロールーム，超純水製造装置 |
| ・リソグラフィ |
電子線描画装置、両面マスクアライナー* |
| ・エッチング |
ICP-RIE装置（ボッシュプロセス可）、ウエットエッチング(シリコン，シリコン酸化膜) |
| ・成 膜 |
マグネトロンスパッタリング装置(各種金属，各種酸化物)
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| ・そ の 他 |
ダイシング装置、陽極接合装置*、ナノインプリント装置* |
| ・評 価 |
非接触三次元測定機 |
| 〈連絡先〉 |
| ・担当部署 |
新潟県工業技術総合研究所 レーザー・ナノテク研究室 |
| ・担 当 者 |
宮口 孝司 |
| ・電 話 |
0258-47-5171 |
| ・Ｆ Ａ Ｘ |
0258-47-5172 |
| ・E-mail |
tmiyaguc@iri.pref.niigata.jp |
| ・施設管理 |
公益財団法人にいがた産業創造機構
テクノプラザ
電話: 0258-46-9711、E-mail: t-plaza@nico.or.jp |
| 〈ＵＲＬ〉 |
https://www.nico.or.jp/techno/nanotech/ |
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